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半導體膜厚測試儀能測低至20納米的超薄薄膜，測量誤差小于1納米，最快每秒可測100次，重復測量精度高達0.05納米。廣泛應用于半導體與微電子制造、顯示面板、光學...
反射式光學膜厚儀能測低至20納米的超薄薄膜，測量誤差小于1納米，最快每秒可測100次，重復測量精度高達0.05納米。廣泛應用于半導體與微電子制造、顯示面板、光學...
非接觸式膜厚測量儀能測低至20納米的超薄薄膜，測量誤差小于1納米，最快每秒可測100次，重復測量精度高達0.05納米。它采用雙光源組合，覆蓋紫外到紅外全光譜，抗...
反射膜厚儀是一款精準又好用的薄膜厚度測量設備。它能測低至20納米的超薄薄膜，測量誤差小于1納米，最快每秒可測100次，重復測量精度高達0.05納米。它采用雙光源...
光學膜厚儀HD-FT50UV是一款精準又好用的薄膜厚度測量設備。它能測低至20納米的超薄薄膜，測量誤差小于1納米，最快每秒可測100次，重復測量精度高達0.05...
反射膜厚測量儀HD-FT50UV是一款精準又好用的薄膜厚度測量設備。它能測低至20納米的超薄薄膜，測量誤差小于1納米，最快每秒可測100次，重復測量精度高達0....
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