1概覽 Simply the best AFM for automatic defect review and surface roughness measurement 對于媒介和基體領域的工程師而言，識別納米級缺陷是一個非常耗時的工作。Park NX-HDM原子力顯微鏡系統可借助數量級實現自動缺陷識別、掃描和分析，從而加快缺陷的檢查過程。Park NX-HDM可與眾多的光學檢查工具直接進行連接，這就意味著自動缺點檢查通量會大幅提高。此外，Park NX-HDM擁有精確的次埃米表面粗糙度測量功能。憑借著業內的本底噪聲和獨特的True Non-Contact™技術，Park NX-HDM毫無疑問是市面上表面粗糙度測量確的原子力顯微鏡。 Higher Throughput, Automatic Defect Review 對于媒介和基體領域的工程師而言，識別納米級缺陷是一個非常耗時的工作。Park NX-HDM原子力顯微鏡系統可借助數量級實現自動缺陷識別、掃描和分析， 從而加快缺陷的檢查過程。Park NX-HDM可與眾多的光學檢查工具直接進行連接，這就意味著自動缺點檢查通量會大幅提高。 Sub-Angstrom, Surface Roughness Measurement 業內對于超平媒介和基體的要求越來越高，所以需要滿足設備體積不斷減小的需求。此外，Park NX-HDM擁有精確的次埃米表面粗糙度測量功能。憑借著業內的本底噪聲和獨特的True Non-Contact™技術，Park NX-HDM毫無疑問是市面上表面粗糙度測量確的原子力顯微鏡。 2應用 Automatic Defect Review for Media and Substrates Higher Throughput, Automatic Defect Review NX-HDM的自動缺陷檢查功能(Park ADR)可加速和改良媒介和基體缺陷的識別、掃描和分析流程。借助光學檢查工具所提供的缺陷位置圖，Park ADR可自動定位這些位置并進行成像（分兩步）： (1) 縮小掃描成像，以準確定位缺陷。 (2) 放大掃描成像，以獲取缺陷的細節。在真實缺陷測試中，我們可以看到相比于傳統的方法，該自動功能可將缺陷檢查通量提高10倍。 Automated Search Scan & Zoom-in Scan 經過優化的掃描參數讓兩步式掃描更為快速： (1) 快速的低分辨率搜尋式掃描，來準確定位缺陷。 (2) 高分辨率的放大掃描，來獲取缺陷的細節。可調節的掃描尺寸和掃描速度參數能滿足用戶的所有需求。 Automatic Transfer and Alignment of Defect Maps to AFM 借助的映射算法，從自動光學檢測(APO)工具中獲取的缺陷坐標圖可準確地傳入和映射至Park NX-HDM。該技術讓全自動高通量缺陷成像成為可能。 Map of Defect Coordinates from an Optical Inspection Tool Accurate Sub-Angstrom Surface Roughness Measurement Sub-Angstrom, Surface Roughness Measurement 業內對于超平媒介和基體的要求越來越高，所以需要滿足設備體積不斷減小的需求。此外，Park NX-HDM擁有精確的次埃米表面粗糙度測量功能。憑借著業內的本底噪聲和獨特的True Non-Contact™技術，Park NX-HDM毫無疑問是市面上表面粗糙度測量確的原子力顯微鏡。 Accurate AFM Topography with Low Noise Z Detector True Sample Topography™ without piezo creep error 3選配 Automatic Measurement Control 自動化軟件讓NX-HDM的操作不費吹灰之力。測量程序針對懸臂調諧、掃描速率、增益和點參數進行優化，為您提供多位置分析。自動化軟件會按照測量文件中預設的程序進行樣品測量。Park的用戶友好型軟件界面讓用戶可靈活執行全系統功能。創建新測量文件只需要10分鐘左右的時間，而修改現有的測量文件則需要不到5分鐘的時間。 Park NX-HDM具有： 自動、半自動和手動模式 各自動程序的可編輯測量方法 測量過程實時監測 自動分析所獲取的測量數據 Ionization System 離子化系統可有效地消除靜電電荷。由于系統隨時可生產和位置正離子和負離子之間的理想平衡，便可以穩定地離子化帶電物體，且不會污染周邊區域。它也可以消除樣品處理過程中意外生成的靜電電荷。
